Technology

產(chǎn)品技術(shù)

ES型裝備

         國創(chuàng)科NEJ-ES 型裝備采用電流體霧化技術(shù)，通過高壓電場引導(dǎo)高速射流尖端突破瑞利極限，產(chǎn)生fL級霧滴，可沉積≥50nm 厚的均勻致密薄膜，主要適用于高粘材料/超薄膜層的高效制備?？纱钶d陣列化噴頭，滿足量產(chǎn)需求。在微納光學(xué)，尤其是 AR&VR  的超薄膜層的解決方案中具有巨大的應(yīng)用價值。

電話：027-63495836
郵箱：sales@whnite.com
技術(shù)參數(shù) 裝備技術(shù)優(yōu)勢 更多產(chǎn)品

技術(shù)參數(shù)

  • ●基板尺寸：可定制
  • ●墨滴體積：fL級
  • ●材料粘度：≤500cps
  • ●膜厚均一性：≤5%
  • ●最小膜厚：50nm
  • ●適用材料體系：光刻膠、鈣鈦礦、納米材料、聚合物單體等有機(jī)/無機(jī)墨水
  • ●應(yīng)用領(lǐng)域：光刻、顯示、太陽能電池、燃料電池、薄膜封裝、醫(yī)藥等

產(chǎn)品應(yīng)用

  • 正/負(fù)性光刻膠，膜厚2 μm

  • 納米壓印膠，膜厚400nm

  • 熱固TFE, 膜厚3μm