Technology

產(chǎn)品技術(shù)

EM型裝備

      國創(chuàng)科NEJ-EM噴印裝備搭載了多功能陣列化電流體點噴以及霧化噴頭和高分辨率單噴嘴噴頭,可大幅提高噴印效率;同時也用于高分辨率結(jié)構(gòu)制備。其具有封閉的打印氛圍控制系統(tǒng),為打印制程提供良好的穩(wěn)定基礎(chǔ)??蛇x配固化模塊、上下料模塊,形成完整的工藝解決方案。
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技術(shù)參數(shù) 裝備技術(shù)優(yōu)勢 更多產(chǎn)品

技術(shù)參數(shù)

  • ●基板尺寸:可定制
  • ●墨滴體積:fL級
  • ●定位精度:≤±2μm
  • ●重復(fù)定位精度:≤±1μm
  • ●打印速度:200mm/s
  • ●高壓供電:0-±5000V
  • ●視覺系統(tǒng):亞微米級定位視學(xué)+多倍觀測相機
  • ●噴頭系統(tǒng):陣列化點噴/霧化噴頭,高分辨單噴嘴噴頭

產(chǎn)品應(yīng)用

  • 正/負性光刻膠,膜厚2 μm

  • 熱固TFE, 膜厚3μm

  • 5000ppi 點陣

  • 焊盤修復(fù),直徑5 μm